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MLS LANNY法蘭調節閥EFL2B40C_KFL2_LW的適用場景
更新時間:2025-09-24   點擊次數:112次

    MLS LANNY法蘭調節閥EFL2B40C_KFL2_LW的適用場景如下:

1. 激光切割與焊接行業

核心需求:激光切割機需精確控制輔助氣體(如氧氣、氮氣)的壓力與流量,以確保切割質量(減少毛刺、掛渣)、提升加工效率,并適配不同厚度材料(如4.5毫米噴嘴的壓縮空氣/氧氣控制)。

EFL2B40C_KFL2_LW優勢:

高精度控制:0.06級精度確保氣體壓力穩定,避免因壓力波動導致切割缺陷。

多氣體適配:支持氧氣、氮氣等特殊氣體,密封件材質(NBR/FKM/PTFE)可防止氣體泄漏,保障安全。

快速響應:模擬/數字或現場總線控制(如PROFINET、IO-Link)支持實時參數調整,適應動態加工需求。

2. PET瓶生產與包裝行業

核心需求:PET拉伸吹塑機需穩定供應高壓氣體(如氮氣)以控制瓶體成型,同時需過濾裝置去除雜質,防止瓶身缺陷。

EFL2B40C_KFL2_LW優勢:

高壓耐受性:出口壓力范圍高達50bar(725 psi),滿足PET行業高壓供氣需求。

密封可靠性:O形密封圈設計結合不銹鋼材質,防止氣體泄漏,延長設備壽命。

定制化支持:可配套閥門端子、過濾裝置等,形成完整供氣解決方案。

3. 工業氣體供應系統

核心需求:需精確調節壓縮空氣、氧氣、氮氣等工業氣體的壓力與流量,確保生產流程穩定(如氣動控制、噴涂工藝)。

EFL2B40C_KFL2_LW優勢:

寬壓力范圍:0-25 bar調節范圍覆蓋多數工業場景,氮氣最高輸入壓力達40bar,氧氣達20bar。

耐腐蝕材質:陽極氧化鋁、黃銅、不銹鋼主體適配不同氣體特性,減少腐蝕風險。

靈活控制方式:支持4-20mA模擬信號或現場總線控制,可集成到現有自動化系統(如PLC、DCS)。

4. 半導體與電子制造

核心需求:需超高純氣體供應(如NF3、NH3)及微流量控制,以滿足蝕刻、清洗等工藝的精度要求。

EFL2B40C_KFL2_LW優勢:

潔凈等級:適配ISO 14644-1 Class 5級潔凈環境,表面粗糙度Ra≤0.2μm,減少顆粒污染。

高精度調節:流量控制范圍0-40 Nl/min,輸出壓力穩定,滿足半導體工藝的嚴苛需求。

防結晶設計:可選特殊流道結構防止氫氧化銅等結晶堵塞,降低維護頻率。

5. 化工與環保工程

核心需求:需控制腐蝕性氣體(如氯氣、氨氣)或液體的壓力與流量,同時防止泄漏與環境污染。

EFL2B40C_KFL2_LW優勢:

密封件適配性:NBR、FKM、PTFE密封件可抵抗多種化學介質,確保長期密封性能。

耐壓設計:PN35/N2、PN20/O2壓力等級滿足化工流程的高壓需求。

數字化監控:IO-Link通信支持實時數據傳輸,便于預測性維護與泄漏預警。


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